Carbonylfluoride

Uit testwiki
Naar navigatie springen Naar zoeken springen

Sjabloon:Infobox chemische stof

Carbonylfluoride is een kleurloos, zeer hygroscopisch gas met een scherpe geur. Het is 2,2 maal zwaarder dan lucht. De kritische temperatuur is 14,7 °C. Chemisch gezien is carbonylfluoride het dizuurfluoride van koolzuur.

Synthese

Carbonylfluoride kan worden gevormd door de reactie van koolstofmonoxide (CO) met fluorgas (F2):

CO + F2  COF2

Gewoonlijk gebeurt dit met een overmaat aan fluor, omdat in het omgekeerde geval (overmaat koolstofmonoxide) er ontploffingsgevaar bestaat. In een bijreactie wordt tetrafluormethaan (CF4) gevormd, een zeer sterk broeikasgas. Om deze nadelen te vermijden en op een veilige manier carbonylfluoride te produceren en de vorming van CF4 te onderdrukken, is voorgesteld om de reactie in een vloeistof te laten doorgaan[1] of onder verlaagde druk (ca. 100 kPa), waarbij het fluorgas eventueel eerst met stikstofgas is gemengd.[2]

Carbonylfluoride wordt ook verkregen door de reactie van koolstofmonoxide met zilverdifluoride (AgF2).

Een andere synthesemethode is de reactie van fosgeen met waterstoffluoride (HF):

2 HF+COCl2 COF2+2 HCl

Carbonylfluoride wordt ook gevormd bij de verhitting of verbranding van fluorkoolwaterstoffen (gefluoreerde koolwaterstoffen).

Toepassingen

Er zijn weinig toepassingen bekend voor carbonylfluoride. Het is een tussenproduct bij de synthese van organische fluorverbindingen. Het wordt in de halfgeleiderindustrie gebruikt voor het reinigen van chemical vapor deposition-apparatuur.[3]

Toxicologie en veiligheid

Carbonylfluoride is een zeer hygroscopisch gas: in vochtige lucht vormt het witte dampen. Het is niet ontvlambaar. Het hydrolyseert onmiddellijk in water, waarbij het corrosieve waterstoffluoride gevormd wordt:

COF2 + H2O  CO2 + 2 HF

Het is een giftig gas, dat de longen beschadigt en is sterk irriterend voor huid, ogen, slijmvlies en ademhalingswegen.

Sjabloon:Appendix

  1. WIPO WO/2006/064917, "Method for producing carbonyl fluoride" van 22 juni 2006.Sjabloon:Dode link Uitgereikt aan Asahi Glass Co. (Japan).
  2. U.S. Patent 7332628, "Process for producing carbonyl fluoride" van 19 februari 2008.Sjabloon:Dode link Uitgereikt aan National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, Tokio (Japan) en een aantal Japanse bedrijven.
  3. U.S. Patent 6787053, "Cleaning gases and etching gases" van 7 september 2004. Uitgereikt aan Asahi Glass Co., Japan en een aantal andere Japanse bedrijven. Gearchiveerd op 10 juni 2023.