Bestand:Origin of residual stress.tif
Naar navigatie springen
Naar zoeken springen
Afmetingen van deze voorvertoning van het type van dit TIF-bestand: 575 × 600 pixels Andere resoluties: 230 × 240 pixels | 460 × 480 pixels | 653 × 681 pixels.
Oorspronkelijk bestand (653 × 681 pixels, bestandsgrootte: 66 kB, MIME-type: image/tiff)
Beschrijving
| Beschrijving |
English: Origin of residual stress in thin films: a) Lattice mismatch, b) thermal difference, and c) intrinsic. |
|||
| Datum | ||||
| Bron | Adapted from: ] M. Birkholz with contributions by Paul F. Fewster and Cristoph Genzel. Thin Film Analysis by X-Ray Scattering. Wiley-VCD Verlag GmbH & Co. (2005). | |||
| Auteur | Carlos Torres | |||
| Andere versies |
|
Licentie
Dit bestand is gelicenseerd onder de Creative Commons Naamsvermelding-GelijkDelen 4.0 Internationaal licentie.
- De gebruiker mag:
- Delen – het werk kopiëren, verspreiden en doorgeven
- Remixen – afgeleide werken maken
- Onder de volgende voorwaarden:
- naamsvermelding – U moet op een gepaste manier aan naamsvermelding doen, een link naar de licentie geven, en aangeven of er wijzigingen in het werk zijn aangebracht. U mag dit op elke redelijke manier doen, maar niet zodanig dat de indruk wordt gewekt dat de licentiegever instemt met uw werk of uw gebruik van zijn werk.
- Gelijk delen – Als u het materiaal remixt, transformeert of erop voortbouwt, moet u uw bijdragen verspreiden onder dezelfde licentie als die van het origineel, of een licentie die daarmee verenigbaar is.
Bestandsgeschiedenis
Klik op een datum/tijd om het bestand te zien zoals het destijds was.
| Datum/tijd | Miniatuur | Afmetingen | Gebruiker | Opmerking | |
|---|---|---|---|---|---|
| huidige versie | 24 mei 2019 07:17 |  | 653 × 681 (66 kB) | wikimediacommons>Charlygtc12 | User created page with UploadWizard |
Bestandsgebruik
Geen enkele pagina gebruikt dit bestand.