Dit bestand is afkomstig van Wikimedia Commons en kan ook in andere projecten gebruikt worden.
De bestandsbeschrijvingspagina wordt hieronder weergegeven.
Beschrijving
BeschrijvingThree monolayer concepts relevant to atomic layer deposition.png
English: Schematic side-view illustration of three monolayer concepts relevant to atomic layer deposition (ALD): (a) chemisorbed monolayer, which is the basis of ALD growth; (b) physisorbed monolayer, with adsorbed molecules closely packed and with multilayer adsorption on top (can serve as a reference for the maximum obtainable ALD growth per cycle); and (c) a "bulk" monolayer of the ALD-grown MZx material (every third MZx unit highlighted with blue).
This image is an updated version of an earlier schematic representation of three monolayer concepts relevant to ALD, which was published in a scientific review article: Puurunen, Journal of Applied Physics, volume 97, article number 121301 (year 2005), Figure 7; https://doi.org/10.1063/1.1940727.
Licentie
Ik, de auteursrechthebbende van dit werk, maak het hierbij onder de volgende licentie beschikbaar:
Delen – het werk kopiëren, verspreiden en doorgeven
Remixen – afgeleide werken maken
Onder de volgende voorwaarden:
naamsvermelding – U moet op een gepaste manier aan naamsvermelding doen, een link naar de licentie geven, en aangeven of er wijzigingen in het werk zijn aangebracht. U mag dit op elke redelijke manier doen, maar niet zodanig dat de indruk wordt gewekt dat de licentiegever instemt met uw werk of uw gebruik van zijn werk.
https://creativecommons.org/licenses/by/4.0CC BY 4.0 Creative Commons Attribution 4.0 truetrue
Bijschriften
Beschrijf in één regel wat dit bestand voorstelt
Three monolayer concepts: (a) chemisorbed monolayer, (b) physisorbed monolayer (in blue) and (c) monolayer of the deposited material.