Bestand:Locos (microtechnology) process.svg
Naar navigatie springen
Naar zoeken springen
Afmetingen van deze voorvertoning van het type PNG van dit SVG-bestand: 385 × 599 pixels Andere resoluties: 154 × 240 pixels | 309 × 480 pixels | 494 × 768 pixels | 658 × 1.024 pixels | 1.317 × 2.048 pixels | 512 × 796 pixels.
Oorspronkelijk bestand (SVG-bestand, nominaal 512 × 796 pixels, bestandsgrootte: 27 kB)
_process.svg){kind=link}
Beschrijving
| Beschrijving |
English: The image illustrates the LOCOS technology used in microfabrication mostly to create isolating structures.
I. Preparation of silicon substrate II. CVD deposition of SiO2, pad/buffer oxide III. CVD deposition of Si3N4, nitride mask IV. Etching of nitride layer and silicon oxide layer V. Thermal growth of silicon oxide VI. Furhter growth of thermal silicon oxide VII. Removal of nitride mask 1) Si, silicon substrate 2) SiO2, pad/buffer oxide, chemical vapor deposition silicon oxide 3) Si3N4, nitride mask 4) SiO2, isolation oxide, thermal oxide |
| Datum | |
| Bron | Eigen werk |
| Auteur | Twisp |
Licentie
|
Ik, de auteursrechthebbende van dit werk, geef dit werk vrij in het publieke domein. Dit is wereldwijd van toepassing. In sommige landen is dit wettelijk niet mogelijk; in die gevallen geldt: Ik sta iedereen toe dit werk voor eender welk doel te gebruiken, zonder enige voorwaarden, tenzij zulke voorwaarden door de wet worden voorgeschreven. |
Bestandsgeschiedenis
Klik op een datum/tijd om het bestand te zien zoals het destijds was.
| Datum/tijd | Miniatuur | Afmetingen | Gebruiker | Opmerking | |
|---|---|---|---|---|---|
| huidige versie | 14 dec 2009 20:02 | | 512 × 796 (27 kB) | wikimediacommons>Cepheiden | some fixes |
Bestandsgebruik
Dit bestand wordt op de volgende pagina gebruikt:
_process.svg){kind=link}